Influence d'oxydation thermique classique séche (C.D.T.O) sur les profils SIMS de dopage et la diffusivité du dopant dans les films Si-LPCVD fortement dopés in-situ au bore
Thèses / mémoires Ecrit par: Boukezzata, M. ; Ait-Kaki, Abdelaziz ; Publié en: 1996
Edition:
Constantine:
Universite de Constantine
Langue:
Français
Collation:
86 p. ill.
;30 cm
Diplôme:
Magister
Etablissement de soutenance:
Institut d'Electronique
Thème
Electronique
Note: Bibliogr.pp.77-80