Influence d'oxydation thermique classique séche (C.D.T.O) sur les profils SIMS de dopage et la diffusivité du dopant dans les films Si-LPCVD fortement dopés in-situ au bore
الأطروحات و الكتابات الأكاديمية من تأليف: Boukezzata, M. ; Ait-Kaki, Abdelaziz ; نشر في: 1996
طبعة:
Constantine:
Universite de Constantine
لغة:
فرنسية
الوصف المادي:
86 p. ill.
;30 cm
الشهادة:
Magister
مؤسسة مناقشة الرسالة:
Institut d'Electronique
الموضوع
الإلكترونيك
ملاحظة: Bibliogr.pp.77-80